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首頁產品服務電漿設備(真空/大氣) 單點電弧噴射式常壓電漿清洗機單點電弧噴射式常壓電漿清洗機

單點電弧噴射式常壓電漿清洗機

適用於局部表面清潔，改變物件表面能，活化物件件

特色		電弧噴射(ARCJET)電漿設計。	處理間距(距樣品)高。
		可使用多種反應氣體CDA/N2/AR等。	可單機或線上模組化。
		能量集中，效果佳。	屬間接式電漿。
		處理速度快。	可適用各種材料及各形狀材料。

使用條件	反應氣體：以CDA為主的氣體，亦可採用其他N2/Ar氣體	啟動速度快: < 0.5SEC
	反應氣體耗量少，運作成本低	電漿穩定性高
	電漿有效處理範圍：Φ3 mm ~ 5mm	屬間接式電漿，無靜電(ESD)殘留問題
	處理速度：5mm/SEC ~ 400 mm/SEC(依產品定義)	可適用各種材料及各形狀材料
	處理間距(距樣品)：5 mm ~ 20 mm

適用產業	LCM中的ITO LEAD/FINGER清潔。	通用LCD及觸控各式前、後段各式製程。
	各式版導體電子元件/非電子元件及材料之表面清潔及改質。	材料改質之應用
	各項材料貼合或塗佈前處理製程；如鞋材/腳踏車/生物晶片試紙等。