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單點電弧噴射式常壓電漿清洗機

適用於局部表面清潔,改變物件表面能,活化物件件

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Plasma Cleaning Solution

單點電弧噴射式常壓電漿清洗機

專為高精密局部表面清潔設計,有效改變物件表面能,達到極致活化與淨化效果。

產品核心特色

✦ 電弧噴射 (ARCJET) 設計

高能量集中出料,顯著提升清潔與活化效率,滿足嚴苛產線速度。

✦ 高作業間距彈性

具備極佳的作業距離適應力,適用於各種複雜曲面與特殊形狀材料。

✦ 多樣化反應氣體

支援乾燥壓縮空氣 (CDA)、氮氣 (N₂) 及氬氣 (Ar) 等多種製程氣體需求。

✦ 模組化整合架構

支援獨立單機作業,亦可快速彈性整合至自動化生產線模組中。

技術規格與操作條件

反應氣體種類 以 CDA 為主,亦可支援 N₂ / Ar 氣體
氣體耗量與成本 反應氣體耗量少,顯著降低運作成本
啟動反應速度 急速啟動 < 0.5 秒
靜電保護 (ESD) 屬間接式電漿,具高度穩定性,完全無靜電殘留問題
有效處理範圍 Φ 3 mm ~ 5 mm
處理間距 (距樣品) 5 mm ~ 20 mm
處理運行速度 5 mm/sec ~ 400 mm/sec(可依產品需求自訂)

適用產業與主要應用

● 面板與觸控顯示產業 (LCM/LCD) 適用於 LCM 中 ITO LEAD / FINGER 清潔,以及通用 LCD 和觸控顯示各式前段、後段製程。
● 半導體與電子零組件 適用於各式半導體電子元件、非電子元件與高階材料之表面清潔、去油脂與表面改質。
● 高分子材料前處理 適用於鞋材、腳踏車車架材料、生物晶片試紙等各式材料貼合或塗佈前的表面預處理。
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